关于我们：业界知名的光刻机（曝光机）设备制造商ABM, Inc. 为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，被广泛的应用于半导体光刻工艺制程，光波导，光栅，微机电MEMS，LD,二极管芯片，发光二极体（LED）芯片制造，显示面板LCD，光电器件，奈米压印以及电子封装等诸多领域。ABM曝光机在全球知名的大学，研发中心，产学研结合单位以及大批量生产之工厂均拥有广泛应用的客户群体。
美国ABM, Inc. 成立于1986年，总部位于加州硅谷San Jose，至今服务于半导体业内34年。
ABM, Inc，除美国总公司外，旗下全球分支之ABM, Inc. Asia Pacific Ltd.在中国香港特别行政区设立直接销售及工艺研发中心并配有class100之超净实验室，为了更好地服务于并提供更专业的售前/后技术服务于中国大陆地区的广大客户，总公司于2016年3月在中国上海成立ABM, Inc. Semiconductor Equipment（Shanghai）Ltd. 利港刻半导体设备（上海）有限公司并于2019年10月荣获上海市科委颁发的高新技术企业证书。